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L'histoire de la société HEIDENHAIN et les grandes étapes de développement de ses produits

La société HEIDENHAIN était à l'origine une entreprise de travail du métal créée en 1889 à Berlin par Wilhelm Heidenhain. Elle fabriquait alors des matrices, des panneaux, des divisions de mesure et des échelles graduées. Après sa destruction complète pendant la seconde guerre mondiale, le fils de son fondateur décida de créer la société DR. JOHANNES HEIDENHAIN à Traunreut, en Bavière. Les premiers produits commercialisés par l'entreprise étaient, là encore, des divisions de mesure et des échelles graduées qui permettaient d'afficher le prix sur les balances. Bientôt, les premiers systèmes de mesure de position optiques pour machines-outils furent intégrés dans le programme commercial et le début des années 60 vit l'arrivée des premiers systèmes de mesure linéaire et angulaire à balayage photoélectrique. Ces développements ont ainsi favorisé l’automatisation d'un grand nombre de machines et d'équipements de production.

Au milieu des années 70, HEIDENHAIN devint également un fabricant de systèmes de commande et d'entraînement pour machines-outils qui n'a cessé de gagner en importance depuis.

Dès sa création, l'entreprise a pris une forte orientation technique. Pour protéger cela et pour assurer l’autonomie pérenne de l'entreprise dans le développement continu, le Dr. Johannes Heidenhain décida en 1970 de léguer ses parts de la société à une fondation à but non lucratif. Grâce à cette décision, la société HEIDENHAIN est aujourd'hui en mesure d'investir massivement dans la recherche et le développement.

Historique

1889

Création de l'entreprise de métal W. HEIDENHAIN à Berlin

1923

Le Dr. Johannes Heidenhain intègre l'entreprise familiale.

1948

La nouvelle société DR. JOHANNES HEIDENHAIN est créée à Traunreut, en Bavière.

1950

Invention du procédé DIADUR qui consiste à déposer des divisions de précision résistantes sur du verre à l'aide d'une copie de la matrice originale

1970

Création de la fondation à but non lucratif DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH

1980

Décès du Dr. Johannes Heidenhain

2014

La société HEIDENHAIN est représentée dans tous les pays industrialisés.

Projets en métrologie

1961

Microscopes de mesure photoélectriques

1966

Comparateur interférentiel pour l'institut fédéral allemand de métrologie (PTB – Physikalisch-Technische Bundesanstalt)

1971

Table de mesure angulaire et appareil de contrôle de disques gradués pour le PTB

1977

Goniomètre de précision pour le PTB

1989

Systèmes de mesure angulaire pour le New Technology Telescope (NTT)

1999

Systèmes de mesure angulaire pour le Very Large Telescope (VLT)

1999

Règles de mesure pour la comparaison internationale de mesures linéaires
NANO 3, entre plusieurs instituts de métrologie nationaux

2001

Comparateur interférentiel nanométrique pour le PTB

2003

Comparaison de mesure angulaire entre HEIDENHAIN, le PTB et l'AIST (institut national de recherche du Japon)

2004

Comparaison de mesure linéaire entre HEIDENHAIN, le PTB et MITUTOYO

2004

Systèmes de mesure angulaire pour le télescope GRANTECAN (Gran Telescopio CANARIAS)

2005

Comparaison de mesure angulaire entre HEIDENHAIN et le PTB

2007

Systèmes de mesure angulaire pour les 25 antennes de l'ALMA (Atacama Large Telescope Array)

2013

Systèmes de mesure angulaire pour le télescope Daniel K. Inouye Solar (DKIST, anciennement ATST - Advanced Technology Solar Telescope)

Historique des divisions de mesure

1936

Règle de mesure en verre d'une précision ± 0,015 mm, copiée par un procédé photo-mécanique

1943

Disque gradué copié d'une précision de ± 3 secondes d'arc

1952

Les échelles graduées pour balances deviennent la principale source de chiffre d'affaires.

1967

Réseaux de phases sans support, microstructures

1985

Marques de référence à distances codées pour règles de mesure incrémentales

1986

Règles de mesure à réseau de phases

1995

Large réseau en grille pour systèmes de mesure à deux coordonnées

2002

Structures de réseaux de phases planaires pour systèmes de mesure linéaire interférentiels

2005

Réseau d'amplitude insensible aux salissures obtenu par ablation au laser

2009

Réseau en grille de grandes dimensions (400 mm x 400 mm) pour les systèmes de mesure utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs

Historique des systèmes de mesure : les systèmes de mesure linéaire à règle nue

1952

Systèmes de mesure linéaire optiques pour machines-outils

1961

Système de mesure linéaire incrémental LID 1, période de division 8 µm / résolution de 2 µm

1963

Système de mesure linéaire codé LIC avec 18 pistes, code binaire / résolution de 5 µm

1965

Interféromètre à laser pour l'étalonnage des machines-outils

1987

Système de mesure linéaire interférentiel à règle nue LIP 101, résolution de 0,02 µm

1989

Système de mesure linéaire interférentiel à règle nue LIP 301, résolution de 1 nm

1992

Système de mesure linéaire interférentiel à deux dimensions PP 109R

2008

Système de mesure linéaire interférentiel LIP 200 avec une période de signal de 0,512 µm, pour des vitesses de déplacement allant jusqu'à 3 m/s

2010

Système de mesure linéaire absolu à règle nue LC 4000 avec 2 pistes,
code pseudo-aléatoire (PRC), EnDat 2.2, longueurs de mesure jusqu'à 27 m et résolution de 1 nm

2012

Système de mesure linéaire absolu à une seule piste LIC 2100

2015

Système de mesure linéaire interférentiel LIP 6000 de forme très compacte

Historique des systèmes de mesure : les systèmes de mesure linéaire étanches

1952

Systèmes de mesure linéaire optiques pour machines-outils

1966

Système de mesure linéaire incrémental cartérisé LIDA 55.6 avec ruban de mesure en acier

1975

Système de mesure linéaire incrémental LS 500 avec règle en verre, longueur de mesure jusqu'à 3 m, résolution de 10 µm

1977

Système de mesure linéaire incrémental LIDA 300, longueur de mesure jusqu'à 30 m

1994

Système de mesure absolu LC 181 avec 7 pistes, interface EnDat, longueur de mesure jusqu'à 3 m, résolution de 0,1 µm

1996

Système de mesure linéaire absolu LC 481 avec 2 pistes, code pseudo-aléatoire (PRC), EnDat, longueur de mesure jusqu'à 2 m

2011

Système de mesure linéaire absolu LC 200, longueur de mesure jusqu'à 28 m, code pseudo-aléatoire (PRC), résolution de 10 nm

2014

Système de mesure linéaire absolu LC xx5, longueur de mesure jusqu'à 4 m, résolution de 1 nm

2015

Système de mesure linéaire incrémental LP 100, longueur de mesure jusqu'à 3 m, résolution 32,5 pm

Historique des systèmes de mesure : les systèmes de mesure angulaire

1952

Systèmes de mesure angulaire optiques

1957/1961

Système de mesure angulaire photoélectrique ROD 1 avec 40 000 périodes de signale/tour, 10 000 traits

1962

ROD 1 avec 72 000 périodes de signal/tour

1964

Système de mesure angulaire ROC 15 / résolution 17 bits

1975

Système de mesure angulaire incrémental ROD 800, précision ± 1 seconde d'arc

1986

Système de mesure angulaire incrémental ROD 905, précision ± 0,2 secondes d'arc

1997

Système de mesure angulaire absolu avec accouplement statorique intégré RCN 723, 23 bits en simple tour, interface EnDat, précision de ± 2 secondes d'arc

2000

Système de mesure angulaire interférentiel ERP 880 avec 180 000 périodes de signal/tour, précision ± 0,2 secondes d'arc

2004

Système de mesure angulaire absolue RCN 727 avec un diamètre d'arbre creux allant jusqu'à 100 mm

2009

Système de mesure angulaire interférentiel ROP 8080, pour les équipements de test de wafers combinant un roulement de charge et un système de mesure angulaire, 360 000 périodes de signal/tour

2011

Système de mesure angulaire interférentiel miniaturisé ERP 1080 en version "Single-Chip-Encoder"

Historique des systèmes de mesure : les capteurs rotatifs

1957/1961

Capteur rotatif photoélectrique incrémental ROD 1 avec 10 000 traits

1964

Capteurs rotatifs standards incrémentaux des séries ROD 2 / ROD 4

1981

Capteur rotatif incrémental ROD 426, standard de l'industrie

1987

Capteur rotatif multitours absolu ROC 221 S, 12 bits en simple tour, 9 bits en multitours

1992

Capteurs rotatifs incrémentaux encastrables ERN 1300 pour des températures de service jusqu'à 120°C

1993

Capteur rotatif simple tour absolu ECN 1300 et capteur rotatif multitours absolu EQN 1300

2000

Capteur rotatif absolu multitours miniaturisé EQN 1100 avec technologie "Chip-On-Board"

2000

Capteur rotatif simple tour absolu ECN 100 avec un diamètre d'arbre creux allant jusqu'à 50 mm

2004

Capteur rotatif simple tour absolu miniaturisé ECI 1100 et capteur rotatif multitours absolu miniaturisé EQI 1100 (avec balayage inductif)

2007

Capteurs rotatifs absolus avec "Functional Safety" SIL2/PL d et interface EnDat 2.2

2012

ERN 1387 doté d'un balayage incrémental amélioré par un nouvel ASIC de balayage

2014

Capteurs rotatifs absolus pour applications jusqu'à SIL3/PL e, interface EnDat 2.2 et exclusion d'erreur

Les grandes étapes du développement des commandes et de l'électronique

1968

Compteurs croissants/décroissants VRZ 59.4 pour 1 axe

1974

Visualisation de cotes numérique HEIDENHAIN 5041

1976

Commandes numériques de positionnement TNC 110 et TNC 120 pour 3 axes

1979

Commandes numériques paraxiales TNC 131 / TNC 135

1981

Commande numérique de contournage pour 3 axes TNC 145

1984

Commande numérique de contournage pour 4 axes TNC 155, avec simulation graphique de l'usinage de la pièce

1995

Interface série synchrone EnDat pour systèmes de mesure de position absolus

1996

Commande numérique de contournage TNC 426 avec asservissement numérique des entraînements pour 5 axes

1996

Pack complet HEIDENHAIN TNC 410 MA avec variateurs et moteurs

2004

Commande numérique de contournage iTNC 530 avec smarT.NC comme mode de programmation alternatif

2007

Commande numérique de contournage TNC 620 avec HSCI, l'interface de contrôle série de HEIDENHAIN

2011

Commande numérique de contournage TNC 640 pour un usinage combinant fraisage et tournage